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蚀刻液
提供高品质的蚀刻液。应用于半导体制程、高阶 IC 封装、光电产业、矽晶圆薄化/粗化/光化/应力去除等制程。提供不同蚀刻率或客制化,以对应各种制程应用的需求。具有高蚀刻选择比、低(undercut)、高 bath loading/bath life、易于操作使用、低成本、制程废液容易处理等特色。适用于 wet bench 与 spin tool 机台。
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我们拥有先进封装湿製程设备,专精于精密蚀刻液与环保型去光阻液、奈米双晶铜电镀液研发与製造
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奈米双晶铜